归类决定Z2024-0019
电浆化学气相沉积用炉管设备
归类编码（税则号列）
8486.2021
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
- 类型
- 归类决定
- 编号
- Z2024-0019
- 发布单位
- 海关总署
- 发布日期
- 2025-01-01
商品描述
该商品为半导体器件制造过程中，在硅片表面生成钝化层的一种热加工设备。工作原理为通过石英炉管生成一个密闭无污染的环境，利用真空产生器在石英管内产生低压环境，利用炉管外圈电阻丝加热生成550摄氏度的环境。硅片在上述环境中，利用电浆电极的正负极与化学气体发生化学反应，并进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等过程，最终在表面生成钝化层。
归类意见
该商品可通过石英炉管生成一个密闭无污染的环境，利用真空产生器在石英管内产生低压环境，利用炉管外圈电阻丝加热生成550摄氏度的环境，硅片在上述环境中利用电浆电极的正负极与化学气体发生化学反应，最终表面生成钝化层。该商品属于专用于半导体器件制造的化学气相沉积设备，符合《进出口税则商品及品目注释》品目84.86项下关于“制造半导体器件或集成电路用的机器及装置”的描述，根据归类总规则一及六，应归入税则号列8486.2021。生效时间：2025年1月1日涉及公告（HB文）：海关总署公告2024年第195号
8486.2021 在现行税则中
2026 年税则
- 第 84 章核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
- 84.86专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释十一（三）规定的机器及装置；零件及附件
- 8486.2制造半导体器件或集成电路用的机器及装置
- 8486.202薄膜沉积设备
- 8486.2021化学气相沉积装置（CVD）
| 商品编码 | 商品名称 | 最惠国税率 | 普通税率 |
|---|---|---|---|
| 8486202100 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 0% | 30% |
申报要素规范申报要素 · 8486.2
- 1.用途
- 2.功能
- 3.品牌（中文或外文名称）
- 4.型号
以上为 2026 年税则中 8486.2021 的情况。裁定作出后税则可能已有调整，税率与申报要素以海关最新公布为准。