归类决定W2014-269

湿式洗涤站/沾湿台

归类编码(品目)
84.86
专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释十一(三)规定的机器及装置;零件及附件
类型
归类决定
编号
W2014-269
发布单位
海关总署
发布日期
未注明
英文名称
Wet Stations

商品描述

湿式洗涤站/沾湿台,通过将硅晶片按特定时间浸泡在含有化学品和/或去离子水的多种洗槽中,用以清洁和蚀刻硅晶片表面并去除不必要的外来物质。它们包括接口部件、化学(浸泡)槽、水洗槽、烘干和输送组件等各种模块。其数目、顺序和组合取决于每种模式的目的和工序。

归类意见

归类依据:归类总规则一及六;子目号:84.86。

84.86 在现行税则中

2026 年税则
  1. 第 84 章核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
  2. 84.86专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释十一(三)规定的机器及装置;零件及附件
84.86 下的商品编码与税率(2026 年)
商品编码商品名称最惠国税率普通税率
8486101000利用温度变化处理单晶硅的机器及装置0%30%
8486102000制造单晶柱或晶圆用的研磨设备0%30%
8486103000制造单晶柱或晶圆用的切割设备0%30%
8486104000制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)0%30%
8486109000其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置0%30%
8486201000氧化、扩散、退火及其他热处理设备0%30%
8486202100制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置0%30%
8486202200制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置0%30%
8486202900其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备0%30%
8486203110制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机(后道用)0%100%
8486203120制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机(前道用 I 线光刻机)0%100%
8486203130制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机(前道用氟化氪( KrF )光刻机)0%100%
8486203190其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机0%100%
8486203910制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机(步进式除外)0%100%
8486203920制造半导体器件或集成电路用的氟化氪( KrF )光刻机(步进式除外)0%100%
8486203930制造半导体器件或集成电路用的氟化氩( ArF )光刻机(步进式除外)0%100%
8486203940制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式( ArFi )光刻机(步进式除外)0%100%
8486203950制造半导体器件或集成电路用的极紫外( EUV )光刻机(步进式除外)0%100%
8486203990未列名制造半导体器件或集成电路用的光刻设备0%100%
8486204100制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机0%30%
8486204900其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备0%30%
8486205000制造半导体器件或集成电路用离子注入机0%11%
8486209000其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置0%30%
8486301000制造平板显示器用扩散、氧化、退火及其他热处理设备0%30%
8486302100制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)0%30%
8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)0%30%
8486302900其他制造平板显示器用薄膜沉积设备0%30%
8486303100制造平板显示器用分步重复光刻机0%100%
8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置0%100%
8486304100制造平板显示器用超声波清洗装置0%30%
8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置0%30%
8486309000其他制造平板显示器用的机器及装置0%30%
8486401000主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置0%70%
8486402100塑封机0%30%
8486402200引线键合装置0%30%
8486402900其他主要或专用于装配封装半导体器件和集成电路的设备0%17%
8486403100IC工厂专用的自动搬运机器人0%20%
8486403900其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备0%30%
8486901000升降、搬运、装卸机器用零件或附件0%30%
8486902000引线键合装置用零件或附件0%30%
8486909110两用物项管制的带背板的溅射靶材组件0%17%
8486909190其他的带背板的溅射靶材组件0%17%
8486909910制造半导体器件或集成电路用光刻设备用零件及附件0%17%
8486909990其他品目84.86所列设备用零件及附件0%17%

以上为 2026 年税则中 84.86 的情况。裁定作出后税则可能已有调整,税率与申报要素以海关最新公布为准。

来源:中国海关归类信息查询(查看原文),数据更新于 2026-10-15。本页仅供参考,实际归类以海关认定为准。