浸润式感光涂布显影机

结构组成:涂胶主系统.显影主系统.供电模块.化学品供应模块.冷温湿度调节模块.传输机构(连接各个部分进行工艺处理)；功能:利用涂胶系统将感光胶涂覆于晶圆片表面，在曝光后(外部光刻机)对感光后的图形进行显影。用途:用于集成电路制造的光刻工艺中，用于涂胶显影，与光刻机配合使用，完成光刻工艺的主要步骤。工作原理:1.温湿度调节:因为涂胶显影工艺中，温湿度对于光刻胶等工艺原料性质有很大影响，所以需要用冷温湿度调节模块调节环境温湿度到指定范围。2.涂胶:将片盒中晶圆片传送到涂胶显影机的涂胶系统的载片台上(用真空吸附)，利用高精度喷嘴和光刻胶泵，将定量的光刻胶准确滴在指定位置，通过晶圆载台高速旋转，利用离心力将光刻胶均匀的涂在晶圆表面，然后软烘和冷却。涂胶工艺包括预涂增黏剂.圆片冷却.旋涂光刻胶.圆片涂胶后软烘等流程。3.显影:将曝光后的晶圆通过传输机构输送到涂胶显影机的显影系统，利用气压或泵将显影液通过显影喷嘴喷洒到高速旋转的晶圆片上，与曝光后的光刻胶反应后形成相应图形。然后喷吐清洗液(去离子水)冲掉显影液及光刻胶，再喷洒定影液进行定影，经过高速旋转甩干后，将圆片传输到烘烤单元进行坚膜，最后送回盒片。

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