金属掩模版框架
- 类型
- 归类预裁定
- 编号
- R-2-4700-2026-0094
- 发布单位
- 武汉海关
- 发布日期
- 未注明
- 英文名称
- MASK Frame
商品描述
材质成分:因瓦(Invar)合金≥99.99%;尺寸:1700mm*1100mm*30mm;颜色及形状:银色空心长方形框架;技术参数:平坦度≤200μm;金属掩模版框架为因瓦(Invar)合金形成的支撑框架,为焊接裁切成型的一体化框架,将因瓦(Invar)合金原材进行裁切后进行热处理,经过多次粗加工打磨成型,再进行深度加工打磨成固定尺寸,清洗后最终形成金属掩模版框架。金属掩模版框架具有较强的物理稳定性,其极低的热膨胀系数和高强度,使其在高温环境下不易发生形变,同时平坦度较高,能与其他材料实现微米级的贴合。金属掩模版框架主要用于OLED显示面板生产制造过程中的真空镀膜工艺,是化学气相沉积设备的专用部件,具有特定的开孔及尺寸,在真空镀膜过程中,由于金属掩模版网面具有极薄的特点,在热量及重力的影响下,容易发生翘曲、变形及下垂,因此常利用张网机张网和激光焊接工艺将金属掩模版网面固定在金属掩模版框架中从而形成金属掩模版组件,将金属掩模版及玻璃基板放置在化学气相沉积设备上,金属掩模版位于玻璃基板上方,其开孔部位对应玻璃基板上需要镀膜的区域,而对不需要镀膜的区域进行遮挡,进而实现区域性镀膜从而获得需要的图案。其中金属掩模版框架作为金属掩模版网面的承载平台,对金属掩模版网面主要起固定支撑作用,确保金属掩模版网面在受热和重力双重作用下仍能保持较高的精度和平整度、保证其平坦度稳定和位置精确,使其能抵抗化学气相沉积成膜过程中的气流冲击和热量冲击,防止金属掩模版网面下垂移位,从而提高显示图案精度,避免成膜至非成膜区,导致水氧和颗粒入侵发光层,造成产品封装失效。
归类意见
海关公开的预裁定信息只列商品描述与编码,不含归类理由。
8486.9099 在现行税则中
- 第 84 章核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
- 84.86专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释十一(三)规定的机器及装置;零件及附件
- 8486.9零件及附件
- 8486.909其他
- 8486.9099其他
| 商品编码 | 商品名称 | 最惠国税率 | 普通税率 |
|---|---|---|---|
| 8486909910 | 制造半导体器件或集成电路用光刻设备用零件及附件 | 0% | 17% |
| 8486909990 | 其他品目84.86所列设备用零件及附件 | 0% | 17% |
申报要素规范申报要素 · 8486.9
- 1.用途(适用于××品牌××机或通用于××机等)
- 2.品牌(中文或外文名称)
- 3.型号
以上为 2026 年税则中 8486.9099 的情况。裁定作出后税则可能已有调整,税率与申报要素以海关最新公布为准。